該真空系統采用一個真空泵同時進行兩個獨立的真空應用的操作，。每個真空端口安裝一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行真空控制。采用MD 4C NT三級化學隔膜泵作為基礎泵，可滿足絕大部分高沸點溶劑的真空需求。該泵的抽速足夠大，允許同時進行兩個大氣載的操作。兩個真空端口都內置止回閥，防止交互污染或干擾。出氣口廢氣冷凝器可實現溶劑回收效果，有效循環(huán)利用溶劑同時保護環(huán)境。

性能特性

CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜單清晰，內置放氣閥  

在較高真空度下仍具有非常好的性能 

使用氣鎮(zhèn)仍能達到很好的真空 

大抽速可實現兩個獨立的真空應用并行操作；內置止回閥防止交叉污染  

溶劑回收系統，使其成為一款環(huán)境友好的產品

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